Вышедшие номера
Влияние ультразвуковых колебаний допороговой мощности на дислокационную люминесценцию эпитаксиальных слоев SiGe
Буянова И.А.1, Савчук А.У.1, Шейнкман М.К.1, Буянов А.В.1
1Институт физики полупроводников АН Украины Киев
Поступила в редакцию: 25 марта 1994 г.
Выставление онлайн: 20 октября 1994 г.

Обнаружено влияние ультразвука допороговой мощности на характеристики дислокационной люминесценции эпитаксиальных гетероструктур n-GexSi1-x-n-Si. Показано, что ультразвуковая обработка (УЗО) приводит к изменению интенсивности D1 и D2 линий свечения, а также к уменьшению величины их линейной поляризации. Для объяснения обнаруженного эффекта предлагаются два механизма ультразвуковой обработки: а) стимулированное ультразвуковое геттерирование точечных дефектов дислокацией, б) переориентация расположенных в придислокационной области примесей и дефектов для уменьшения имеющейся в этой области деформации решетки.