Методом термодесорбции исследована кинетика адсорбции H₂O на Si(111)-7x7 при давлениях паров воды 2·10^-9-5·10^-6 Па. Установлено, что степень хемосорбированного покрытия поверхности водородом и кислородом зависит не только от экспозиции в нарах воды, пропорциональной произведению давления пара на время экспозиции, но и от давления пара отдельно. В указанном диапазоне давлений коэффициент прилипания меняется от 0.08 до 0.009 соответственно. Возможный механизм явления состоит в реакции образования адслоя - поверхностной фазы гидросиликата вдоль ступеней. Поверхностная диффузия кремния к полосам этой фазы вдоль ступеней, продиктованная требованиями стехиометрии, должна, если она происходит, вести к зависимости скорости реакции не только от экспозиции, но и от времени, а значит, и от давления.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.