Влияние подложки на процесс кристаллизации PZT пленок, приготовленных методом лазерного распыления
Выставление онлайн: 20 октября 1992 г.
Исследованы особенности кристаллизации аморфных слоев Pb(Zr, Ti)O3, приготовленных методом лазерного распыления. Показана возможность формирования четко текстурированных слоев Pb(Zr, Ti)O3 на подложках, обеспечивающих малые различия в параметрах решетки. Предложен механизм, объясняющий образование углублений на поверхности пленок Pb(Zr, Ti)O3 в процессе их рекристаллизации.
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.