С помощью рентгеновских и электрофизических методов, а также просвечивающей электронной микроскопии исследован распад твердого раствора фосфора в сильно легированных методом диффузии слоях кремния при температурах 500-700^oC Кинетические зависимости изменения относительной деформации, электропроводимости и дефектности диффузионных слоев объясняются образованием выделений типа SiP главным образом из кластеров узельного электронеактивного фосфора. Процесс распада лимитируется ускоренной диффузией фосфора и сопровождается коалесценцией выделений и генерацией дислокационных петель, снимающих напряжения.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.