Вышедшие номера
Радиационное повреждение в алмазах при имплантации гелия
Хомич А.В.1, Хмельницкий Р.А.2, Дравин В.А.2, Гиппиус А.А.2, Заведеев Е.В.3, Власов И.И.3
1Институт радиотехники и электроники Российской академии наук, Фрязинский филиал, Фрязино, Московская обл., Россия
2Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук, Москва, Россия
3Институт общей физики им. А.М. Прохорова РАН, Москва, Россия
Email: khomich@ms.ire.rssi.ru
Поступила в редакцию: 20 июня 2006 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2007 г.

Методами оптической спектроскопии и измерения объемного "вспухания" исследованы радиационное повреждение и процесс графитизации алмаза, имплантированного ионами гелия при температурах от 77 до 373 K. Установлено, что с ростом температуры имплантации уменьшается радиационное повреждение, что объясняется радиационно-стимулированным отжигом дефектов в процессе повреждения. Показано, что результат формирования графитизированного слоя определяется не дозой имплантации, а уровнем радиационного повреждения. Установлено, что чем ниже температура имплантации, тем при меньших температурах отжига формируется графитизированный слой. Продемонстрировано, что процессы отжига радиационных дефектов и формирования графитизированного слоя в алмазе продолжаются вплоть до температуры 1600oC. Работа поддержана РФФИ (гранты N 04-02-17060 и 05-02-08292). PACS: 61.72.Ww, 81.05.Uw