Вышедшие номера
Изучение аморфных состояний SiO2 методом комбинационного рассеяния света
Малиновский В.К.1, Новиков В.Н.1, Суровцев Н.В.1, Шебанин А.П.2
1Институт автоматики и электрометрии Сибирского отделения РАН, Новосибирск, Россия
2Институт геологии и геофизики Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Email: malinovsky@iae.nsk.su
Поступила в редакцию: 18 июня 1999 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 1999 г.

Методом комбинационного рассеяния света изучены образцы стеклообразного SiO2, подвергнутые облучению быстрыми нейтронами с дозой от 5·1017 до 2.2·1020 на cm2. Показано, что позиция максимума низкочастотного спектра комбинационного рассеяния (бозонный пик) сдвигается с увеличением дозы, а размер среднего порядка уменьшается с 25 Angstrem для исходного стекла до 19 Angstrem для образца с предельной дозой облучения. Обнаружено, что интенсивность быстрой релаксации, найденная из анализа низкочастотной части спектров, линейно коррелирует с удельным объемом исследованных образцов.