Вышедшие номера
Электролюминесценция ионов Er3+ в режиме пробоя диодной структуры p+-Si/n-Si : Er/n+-Si
Шмагин В.Б.1, Ремизов Д.Ю.1, Оболенский С.В.1, Крыжков Д.И.1, Дроздов М.Н.1, Красильник З.Ф.1
1Институт физики микроструктур Российской академии наук, Нижний Новгород, Россия
Email: shm@ipm.sci-nnov.ru
Выставление онлайн: 20 декабря 2004 г.

Исследованы электролюминесцентные свойства диодных светоизлучающих структур типа p+-Si/n-Si : Er/n+-Si, в которых тонкий слаболегированный слой n-Si : Er (ND~ 1016 cm-3) заключен между высоколегированными слоями кремния. Показано, что максимальная интенсивность ЭЛ ионов Er3+ достигается в структурах, работающих в режиме смешанного пробоя области пространственного заряда. Определена ширина "темновой" области (ddark~ 0.015-0.02 mum), в пределах которой электроны набирают энергию, необходимую для возбуждения ионов Er3+. Работа выполнена при финансовой поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (N 02-02-16773, 04-02-17120), INTAS (N 01-0194, 03-51-6486).