Степень тетрагональности в TiAl и влияние на нее легирования ванадием исследованы с применением методов расчета, основанных на приближении когерентного потенциала и ab initio псевдопотенциалов. Показано, что замещение атомов подрешетки Ti ванадием приводит к росту степени тетрагональности, но при замещении атомов в алюминиевой подрешетке тетрагональность сплава TiAl : V уменьшается и при содержании ванадия около 8 at.% решетка становится практически кубической. Это в свою очередь может привести к повышению пластичности TiAl, хрупкого при низких температурах. Работа выполнена при финансовой поддержке Российского фонда фундаментальных исследований (грант N 03-02-16970) и Королевской Шведской академии наук.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.