Исследован процесс интеркалирования железом однослойного графена, выращенного на 4H-SiC(0001). Эксперименты проведены in situ в условиях сверхвысокого вакуума c применением методов дифракции медленных электронов, фотоэлектронной спектроскопии высокого энергетического разрешения с использованием синхротронного излучения и спектроскопии рентгеновского поглощения вблизи K-края углерода. Толщины наносимых пленок железа варьировались в диапазоне 0.1 - 2 nm, а температура образцов - от комнатной до 700^oC. Показано, что процесс интеркалирования начинается при температурах выше ~350^oC. При этом обнаружено, что интеркалированные атомы Fe локализуются не только между графеном и буферным слоем, покрывающим SiC, но и под самим буферным слоем. Оптимальные условия интеркалирования реализуются в диапазоне 400 - 500^oC, т. к. при более высоких температурах система становится нестабильной из-за химического взаимодействия интеркалированного железа с карбидом кремния. Продемонстрирована инертность интеркалированных пленок к воздействию кислорода. Авторы благодарят Российско-Германскую лабораторию на BESSY II и Helmholtz-Zentrum Berlin за возможность использования синхротронного излучения. Г.С.Г. и Е.Ю.Л. признательны РФФИ за финансовую поддержку (грант N 16-02-00387), И.А.Е. и И.И.П. благодарят Минобрнауки РФ за поддержку работы (задание 3.3161.2017/4.6 проектной части госзадания). С.П.Л. выражает благодарность за поддержку стипендией Президента РФ для молодых ученых и аспирантов (СП-3472.2016.4).

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.