Вышедшие номера
Влияние свойств подложек на морфологию нанометровых пленок BaxSr1-xTiO3
Афросимов В.В.1, Ильин Р.Н.1, Карманенко С.Ф.2, Сахаров В.И.1, Серенков И.Т.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
Email: r.ilin@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 25 ноября 2002 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2003 г.

Начальные стадии роста пленок BaxSr1-xTiO3 на различных диэлектрических подложках исследованы посредством метода рассеяния ионов средних энергий, на основании полученных результатов проведен анализ микродефектов в пленке. Обнаружено, что в зависимости от формы, размеров и электростатического состояния кристаллографических ячеек поверхности подложки меняется характер роста пленки. На подложке SrTiO3 происходит эпитаксиальный рост. Пленка на подложке LaAlO3 состоит из слегка разориентированных кристаллитов. Характер роста пленки на подложке MgO островковый до толщины 20 nm, при этом происходит образование посторонних фаз; при увеличении толщины пленка приобретает эпитаксиальный характер роста. На поверхности alpha-Al2O3 (1102) растет поликристаллическая пленка, содержащая текстурированные блоки. Работа выполнена в рамках проекта N 1708 МНТЦ "Сегнетоэлектрические структуры для применения в радиоэлектронных приборах".