Приведены результаты измерения с помощью атомно-силового микроскопа (АСМ) твердости (H) и модуля Юнга (E) в поверхностных слоях монокристаллического KCl на глубинах до 300 nm от поверхности в диапазоне нагрузок от 5 до 100 muN. Величины H и E оценивались "косвенным" способом по анализу кривых P(h) (нагрузка на индентор - глубина внедрения индентора). Кроме того, величина H оценивалась "прямым" способом - путем измерения площади отпечатка, визуализуемого АСМ с нанометрическим разрешением. Выявлено влияние структурных особенностей поверхности вокруг отпечатка индентора на точность оценок H и E. Обнаружена резкая зависимость H от величины нагрузки на индентор - "масштабный" (наноразмерный) эффект. Качественно экспериментальные результаты хорошо согласуются с выводами модели "геометрически необходимых дислокаций" Никса и Гао, но для количественных оценок массопереноса материала из под наноиндентора необходимо структурное рассмотрение с учетом особенностей пластической деформации кристаллов.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.