GaN selective epitaxy in sub-micron windows with different depths formed by ion beam nanolithography
Rodin S.N.1, Lundin W.V.1, Tsatsulnikov A.F.2, Sakharov A.V.1, Usov S.O.2, Mitrofanov M.I.1, Levitskii I.V.1, Evtikhiev V.P.1, Kaliteevski M.A.3
1Ioffe Institute, Russian Academy of Sciences, St. Petersburg, Russia
2Research and Engineering Center on Submicron Heterostructures for Microelectronics, Russian Academy of Sciences, St. Petersburg, Russia
3ITMO University, Saint-Petersburg, Russia
Email: s_rodin77@mail.ru
Поступила в редакцию: 16 июля 2019 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2019 г.
A significant difference in the growth mechanism of spatially closed structures of gallium nitride during selective growth in submicron windows with and without penetration into the GaN sublayer was demonstrated. The mechanisms of generation and development of dislocations, their role in the formation of self-organizing coaxial structures were modeled. Keywords: selective epitaxy, dislocations in GaN, self-organized coaxial structure, MOCVD, FIB.
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.