Вышедшие номера
Полупроводниковые свойства полимерных пленок на основе комплекса никеля с лигандом саленового типа
Российского фонда фундаментальных исследований (РФФИ), 18-03-00864
Российского фонда фундаментальных исследований (РФФИ), 19-29-08026
Положенцева Ю.А. 1, Алексеева Е.В. 2, Карушев М.П. 1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Санкт-Петербургский государственный университет, Санкт-Петербург, Россия
Email: miracle_r@mail.ru, alekseeva_ev@yahoo.com, mkarushev@mail.ioffe.ru
Поступила в редакцию: 12 июля 2021 г.
В окончательной редакции: 9 сентября 2021 г.
Принята к печати: 9 сентября 2021 г.
Выставление онлайн: 22 октября 2021 г.

Комплексы металлов с основаниями Шиффа рассматриваются как перспективные материалы для создания энергозапасающих и фотоэлектрических устройств. В данной работе спектрофотометрическим методом и методом спектроскопии фарадеевского импеданса были изучены полупроводниковые свойства полимерной пленки комплекса никеля с основанием Шиффа саленового типа (поли-Ni(CH3O-Salen)). Анализ Мотта-Шоттки показал, что полимерная пленка представляет собой полупроводниковый материал с достаточно узкой шириной запрещенной зоны, высокой плотностью носителей заряда и p-типом проводимости. Методом спектроскопии фарадеевского импеданса установлена лимитирующая стадия реакции фотоэлектровосстановления кислорода - процесс переноса заряда с пленки на молекулярный кислород. Ключевые слова: основания Шиффа, анализ Мотта-Шоттки, фотоэлектрические устройства, полупроводниковые свойства.