Катастрофическое разрушение углеродных нанотрубок при деградации автоэлектронных эмиттеров
Булярский С.В.1, Дудин А.А.1, Лакалин А.В.1, Орлов А.П.1
1Институт нанотехнологий микроэлектроники Российской академии наук, Москва, Россия
Email: bulyar2954@mail.ru
Поступила в редакцию: 23 марта 2023 г.
В окончательной редакции: 2 апреля 2023 г.
Принята к печати: 2 апреля 2023 г.
Выставление онлайн: 30 апреля 2023 г.
Моделируется катастрофическая деградация эмиссионных катодов на основе углеродных нанотрубок, которая происходит из-за разрушения нанотрубки в дефектной области в результате перегрева. Модель учитывает разогрев нанотрубки путем выделения тепла Джоуля, а также радиационное излучение и охлаждение вследствие эффекта Нотингема, заключающегося в уменьшении температуры эмитирующего конца за счет энергии, уносимой потоком эмитированных электронов. Предложенная модель сравнивается с экспериментом по деградации одиночной нанотрубки. Эксперимент подтверждает катастрофическое разрушение и показывает, что разрушению способствует возникновение термоэлектронной эмиссии, которая вызывает быстрый рост тока и, соответственно, температуры дефектной области нанотрубки. Ключевые слова: автоэлектронные эмиттеры, деградация, разогрев нанотрубки, дефекты, катастрофическое разрушение.
- L.A. Chernozatonskii, Y.V. Gulyaev, Z.J. Kosakovskaja, N.I. Sinitsyn, G.V. Torgashov, Y.F. Zakharchenko, E.A. Fedorov, V.P. Val'chuk. Chem. Phys. Lett. 233, 1--2, 63 (1995). https://doi.org/10.1016/0009-2614(94)01418-U
- W.A. de Heer, A. Ch\^atelain, D. Ugarte. Science 270, 5239, 1179 (1995). https://doi.org/10.1126/science.270.5239.1179
- M. Mauger, V.T. Binh. J. Vac. Sci. Technol. B 24, 2, 997 (2006). https://doi.org/10.1116/1.2179454
- A.P. Gupta, S. Park, S.J. Yeo, J. Jung, C. Cho, S.H. Paik, H. Park, Y.C. Cho, S.H. Kim, J.H. Shin, J.S. Ahn, J. Ryu. Materials 10, 8, 878 (2017). https://doi.org/10.3390/ma10080878
- S. Park, A.P. Gupta, S.J. Yeo, J. Jung, S.H. Paik, M. Mativenga, S.H. Kim, J.H. Shin, J.S. Ahn, J. Ryu. Nanomaterials 8, 6, 378 (2018). https://doi.org/10.3390/nano8060378
- M. Croci, I. Arfaoui, T. Stockli, A. Chatelain, J.-M. Bonard. Microelectronics J. 35, 4, 329 (2004). https://doi.org/10.1016/j.mejo.2003.07.003
- C. Paoloni, M. Mineo, A. Di Carlo, A.J. Durand, V. Krozer, M. Kotiranta, F. Bouamrane, T. Bouvet, S. Megtert. In: Proc. 2012 IEEE Thirteenth Int. Vacuum Electron. Conf. (IVEC). Monterey, CA, USA. 24-26.04.2012. IVEC (2012) (IEEE). P. 237-238
- H.Y. Yuan, X.R. Wang. Sci. Rep. 6, 22638 (2016). https://doi.org/10.1038/srep22638
- N.L. Rupesinghe, M. Chhowalla, K.B.K. Teo, G.A.J. Amaratunga. J. Vac. Sci. Technol. B 21, 1, 338 (2003). https://doi.org/10.1116/1.1527635
- I. Levchenko, S. Xu, G. Teel, D. Mariotti, M.L.R. Walker, M. Keidar. Nature Commun. 9, 1, 879 (2018). https://doi.org/10.1038/s41467-017-02269-7
- B. Galante, G.A. Tranquille, M. Himmerlich, C.P. Welsch. J. Resta Lopez. Phys. Rev. Accel. Beams 24, 11 (2021). https://doi.org/10.1103/PhysRevAccelBeams.24.113401
- N.T. Hong, K.H. Koh, S. Lee, P.N. Minh, N.T.T. Tam, P.H. Khoi. J. Vac. Sci. Technol. B 27, 2, 749 (2009). https://doi.org/10.1116/1.3097850
- J.T.L. Thong, C.H. Oon, W.K. Eng, W.D. Zhang, L.M. Gan. Appl. Phys. Lett. 79, 17, 2811 (2001). https://doi.org/10.1063/1.1412590
- S.B. Fairchild, P. Zhang, J. Park, T.C. Back, D. Marincel, Z. Huang, M. Pasquali. IEEE Trans. Plasma Sci. 47, 5, 2032 (2019). https://doi.org/10.1109/TPS.2019.2900219
- Y. Guo, J. Wang, B. Li, Y. Zhang, S. Deng, J. Chen. Nanomaterials 12, 11, 1882 (2022). https://doi.org/10.3390/nano12111882
- J.H. Kim, J.S. Kang, K.C. Park. Micromachines 9, 12, 648 (2018). https://doi.org/10.3390/mi9120648
- J.H. Ryu, K.S. Kim, C.S. Lee, J. Jang, K.C. Park. J. Vac. Sci. Technol. B 26, 2, 856 (2008). https://doi.org/10.1116/1.2884757
- С.В. Булярский, А.А. Дудин, А.В. Лакалин, А.П. Орлов, А.А. Павлов, Р.М. Рязанов, А.А. Шаманаев. ЖТФ 88, 6, 920 (2018). https://doi.org/10.21883/JTF.2018.06.46026.2447 [S.V. Bulyarskiy, A.A. Dudin, A.V. Lakalin, A.P. Orlov, A.A. Pavlov, R.M. Ryazanov, A.A. Shamanaev. Tech. Phys. 63, 6, 894 (2018). https://doi.org/10.1134/S1063784218060099]
- J. Paulini, T. Klein, G. Simon. J. Phys. D 26, 8, 1310 (1993). https://doi.org/10.1088/0022-3727/26/8/024
- J.P. Hirth, G.M. Pound. Condensation and Evaporation: Nucleation and Growth Kinetics. Macmillan, N.Y. (1963). 191 p
- К.П. Шумский, А.И. Мялкин, И.С. Максимовская. Основы расчета вакуумной сублимационной аппаратуры. Машиностроение, М. (1967). 224 c
- А.А. Дудин, А.П. Орлов, Е.В. Зенова, А.М. Тагаченков. НМСТ 20, 9, 515 (2018). [A.A. Dudin, A.P. Orlov, E.V. Zenova, A.M. Tagachenkov. NMST 20, 9, 515 (2018). https://doi.org/10.17587/nmst.20.515-520]
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.