Вышедшие номера
Синхротронные исследования многослойных нанопериодических структур Si/Mo/Si... c-Si (100)
Домашевская Э.П.1, Терехов В.А.1, Турищев С.Ю.1, Коюда Д.А.1, Румянцева Н.А.1, Першин Ю.П.2, Кондратенко В.В.2, Appathurai N.3
1Воронежский государственный университет, Воронеж, Россия
2Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт", Харьков, Украина
3Synchrotron Radiation Center, Stoughton, USA
Email: ftt@phys.vsu.ru
Поступила в редакцию: 11 июля 2012 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 2013 г.

Представлены результаты исследования многослойных нанопериодических структур c-Si/[Si/Mo]n/Si методом спектроскопии ближней тонкой структуры края рентгеновского поглощения с использованием синхротронного излучения. Изменение тонкой структуры спектров XANES Mo L2,3 подтверждает формирование силицидной фазы, образующейся на гетерофазных межслойных границах Si/Mo/Si в результате твердофазных взаимодействий между слоями кремния и молибдена. Работа частично выполнена в сентре синхротронного излучения SRC Университета Висконсин-Мэдисон (Synchrotron Radiation Center), который поддерживается Национальным научным фондом США (грант N DMR-0537588).