Использовался пучок отрицательных ионов Au^- и проводился высокотемпературный отжиг для рекристаллизации структуры рентгеноаморфного AlN-TiB₂-TiSi₂, имеющего характерные размеры областей ближнего упорядочения 0.8-1 nm. Прямые измерения методами высокоразрешающей просвечивающей электронной микроскопии и рентгеновским микроанализом (SEM with EDS) показали, что термический отжиг при 1300^oC на воздухе приводит к образованию наноразмерных фаз 10-15 nm из AlN, AlB₂, Al₃O₃ и TiO₂, а ионная имплантация отрицательных ионов Au^- приводит к фрагментации (уменьшению) размера нанозерен до 2-5 nm с образованием нанокристаллитов из Au "шаровой" формы размером в несколько nm и формированию аморфной оксидной пленки в глубине (приповерхностном слое) покрытия за счет баллистического ионного перемешивания и каскадов столкновений. Работа была выполнена в рамках бюджетных тематик N 0115U000682 "Разработка материаловедческих основ структурной инженерии вакуумно-плазменных сверхтвердых покрытий с целью достижения необходимых функциональных свойств", N 0113U000137c "Физические принципы плазменной технологии для комплексной обработки многокомпонентных материалов и покрытий", а также при сотрудничестве с National Institute for Materials Science, Tsukuba, Япония.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.