Вышедшие номера
Метод контроля наноразмерной толщины бислойных пленочных наноструктур
Стогний А.И.1, Новицкий Н.Н.1, Стукалов О.М.1
1УП "Завод Транзистор" НПО "Интеграл", Минск, Беларусь Институт физики твердого тела и полупроводников НАН Беларуси, Минск
Email: stognij@ifttp.bas-net.by
Поступила в редакцию: 16 сентября 2002 г.
Выставление онлайн: 20 января 2003 г.

Описан экспресс-метод определения при помощи атомно-силового микроскопа (АСМ) наноразмерной толщины ультратонких одно- и бислойных пленок, осажденных на пористую, с гладкими участками между порами стеклянную подложку при наклонном угле падения потока напыляемого материала. При осаждении бислойных пленок вторая мишень устанавливается под углом на 10... 15o больше относительно подложки, чем первая. На АСМ-изображениях поверхности таких пленок отчетливо фиксируется положение границ кромка поры-пленка и верхний слой пленки-нижний слой пленки, что дает возможность оценить толщину пленки в целом, и каждого слоя в отдельности по высотам ступенек между кромкой поры и поверхностями слоев пленки на поперечном сечении рельефа поверхности.