Вышедшие номера
Фоторазложение гексахлорбифенила излучением KrCl (222 nm) эксилампы барьерного разряда
Пикулев А.А.1, Цветков В.М.1
1Российский федеральный ядерный центр --- Всероссийский научно-исследовательский институт экспериментальной физики, Саров, Нижегородская обл., Россия
Email: pikulev@expd.vniief.ru
Поступила в редакцию: 29 мая 2009 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2009 г.

Проведено исследование дехлорирования 2, 2', 4, 4', 5, 5'-гексахлорбифенила (ПХБ N 153) при воздействии УФ-излучения KrCl* (222 nm) эксилампы барьерного разряда. Был исследован фотолиз трех образцов: N 1 - раствор ПХБ N 153 в гексане с концентрацией 10 mug/ml; N 2 - то же с концентрацией 1 mug/ml; N 3 - пленка ПХБ N 153 на кварцевой пластинке. Степень разложения ПХБ N 153 определялась по спектрам пропускания образцов в диапазоне 185-350 nm. Анализ спектров поглощения свидетельствует, что в первую очередь происходит отделение атомов хлора в ортоположениях (2, 2'). При интенсивности УФ-излучения на поверхности образцов 3 mW/cm2 остаточное содержание ПХБ N 153 составляет: для образца N 1 - менее 2% после 60 min облучения; N 2 - <3% после 25 min облучения; N 3 - <20% после 60 min облучения.