Вышедшие номера
Создание профильного распределения концентрации рекомбинационных центров при электронном облучении кремния
Грехов И.В.1, Костина Л.С.1, Козловский В.В.1, Ломасов В.Н.1, Рожков А.В.1
1Физико-технический институт им А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург Санкт-Петербургский государственный политехнический университет
Email: rozh@hv.ioffe.rssi.ru
Поступила в редакцию: 13 декабря 2010 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 2011 г.

Показана возможность создания профильного распределения концентрации рекомбинационных центров в высоковольтных кремниевых p+Nn+-диодах путем обычного электронного облучения в определенном диапазоне энергий. Приводятся результаты исследования основных статических и динамических характеристик.