Бесстолкновительные слои емкостного разряда в различных частотных диапазонах
Никандров Д.С.1, Цендин Л.Д.1
1Санкт-Петербургский государственный политехнический университет
Email: nikandrovds@mail.ru
Поступила в редакцию: 19 марта 2006 г.
Выставление онлайн: 20 июля 2006 г.
Продемонстрирован непрерывный переход свойств слоев ВЧ-разряда от высокочастотного режима к низкочастотному. Обнаружено существование нового режима, названного динамическим, в котором значительную часть ВЧ-периода характерным масштабом скорости ионов является бомовская скорость. Таким образом, можно выделить три режима слоя: высокочастотный, в котором движение ионов определяется средним полем, квазистационарный и динамический. Показано, что свойства слоя определяются двумя безразмерными параметрами и указаны области значений этих параметров, соответствующие различным режимам. Приведены результаты PIC моделирования и их объяснение. PACS: 52.80.Pi
- Lieberman M.A., Lichtenberg A.J. Principles of plasma discharges and materials processing. Wiley-Interscience, 2005
- Riemann K.-U. // Phys. Fluids B. 1992. V. 4 (9). P. 2693--2695
- Riemann K.-U. // J. Tech. Phys. Special Issue. 2000. V. 41 (1). P. 89--121
- Allen J.E., Skorrik M.A. // J. Plasma Phys. 1993. V. 50. P. 2434
- Bohm. D. The Characteristics of Electrical Discharges in Magnetic Fields / Ed. by Guthry and Wakerling. New York: McGraw--Hill, 1949
- Lieberman M.A.// IEEE Trans. Plasma Sci. 1988. V. 16 (6). P. 638--644
- Lieberman M.A.// IEEE Trans. Plasma Sci. 1989. V. 17 (2). P. 338--341
- Vallinga P.M., Meijer M., de Hoog F.J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1989. V. 22. P. 1650--1657
- Godyak V.A., Stemberg N. // Phys. Rev. A. 1990. V. 42 (7). P. 2299--2312
- Klick M. // J. Appl. Phys. 1996. V. 79 (7). P. 3445--3452
- Goedheer W., Meijer P. // IEEE Trans. Plasma Sci. 1991. V. 19 (2). P. 245--249
- Gierling J., Riemann K.-U. // J. Appl. Phys. 1998. V. 83 (7). P. 3521--3528
- Metze A., Ernie D.W., Oskam H.J. // J. Appl. Phys. 1986. V. 60 (9). P. 3081--3087
- Pointu A.M. // Appl. Phys. Lett. 1986. V. 48. P. 762
- Pointu A.M. // J. Appl. Phys. 1986. V. 60 (12). P. 4113--4118
- Vallinga P.M., de Hoog F.J. // J. Phys. D: Appl. Phys. 1989. V. 22. P. 925--932
- Panagopoulos T., Economou D.J. // J. Appl. Phys. 1999. V. 85 (7). P. 3435--3443
- Edelberg E.A., Aydil E.S. // J. Appl. Phys. 1999. V. 86 (9). P. 4799--4812
- Miller P.A., Riley M.E. // J. Appl. Phys. 1997. V. 82 (8). P. 3689--3709
- Deepak Bose, Govindan T.R., Meyyappan M. // J. Appl. Phys. 2000. V. 87 (10). P. 7176--7184
- Sobolewski M.A. // Phys. Rev. E. 2000. V 62 (6). P. 8540--8553
- Child C.D. // Phys. Rev. 1911. V. 32. P. 492
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук