Плазмохимический синтез карбидных соединений в потоке металлической плазмы вакуумно-дугового разряда
Быстров Ю.А.1,2,3, Ветров Н.З.1,2,3, Лисенков А.А.1,2,3
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
2ЗАО "С.Е.Д.-СПб."
3Институт проблем машиноведения РАН, Санкт-Петербург, Россия
Email: YaBystrov@mail.eltech.ru
Поступила в редакцию: 10 февраля 2008 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2008 г.
Исследованы особенности получения карбидных соединений в потоке металлической плазмы вакуумно-дугового разряда. Выявлены факторы, определяющие качество наносимых покрытий. PACS: 52.77.Dq, 52.75.Dd
- Барченко В.И., Быстров Ю.А., Колгин Е.А. Ионно-плазменные технологии в электронном производсте. СПб.: Энергоатомиздат, 2001. 332 с
- Lisenkov A.A., Vetrov N.Z., Radzig N.M. // Plasma Devices and Operations. 2000. V. 8. N 3. P. 179--185
- Патент на изобрет. N 2180472 РФ, МКП 7Н05H1/50, C23C14/35. N 20001103758/06; заявл. 07.02.2000; опубл. 2002. Бюл. N 7
- Андерс А., Окс Е.М., Юшков Г.Ю. и др. // ЖТФ. 2006. Т. 76. В 10. С. 57--61
- Глущенко Г.А., Булина Н.В., Новиков П.В. и др. // Письма в ЖТФ. 2003. Т. 29. В. 22. С. 23--28
- Лисенков А.А. // Вакуумная техника и технология. 2006. Т. 16. N 3. С. 207--214
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.