Вышедшие номера
Формирование текстуры (200) и (110) в пленках железа, полученных магнетронным распылением
Джумалиев А.С.1, Никулин Ю.В.1, Филимонов Ю.А.1
1Саратовский филиал Института радиотехники и электроники им. В.А. Котельникова РАН, Саратов, Россия
Email: dzhas@yandex.ru
Поступила в редакцию: 23 апреля 2013 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2013 г.

Исследовано влияние давления рабочего газа на текстуру пленок железа, полученных на подложках Si(100)/SiO2 магнетронным распылением при комнатной температуре. Показано, что изменение давления рабочего газа от 1.33 до 0.09 Pa приводит к смене текстуры пленок от (110) к (200), что также сопровождается переходом от столбчатой микроструктуры пленок к квазиоднородной. Показано, что шероховатость поверхности пленки зависит от давления рабочего газа немонотонно и имеет максимум в интервале давлений, отвечающих сосуществованию в пленке фаз с текстурами (110) и (200).