Вышедшие номера
Фотоотражение структур GaAs с дельта<Mn>-легированным слоем
Комков О.С.1, Докичев Р.В.1, Кудрин А.В.1, Данилов Ю.А.1
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" Научно-исследовательский физико-технический институт Нижегородского государственного университета
Email: okomkov@yahoo.com
Поступила в редакцию: 6 июня 2013 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2013 г.

Методом фотомодуляционной оптической спектроскопии (фотоотражения) определена напряженность встроенного электрического поля в структурах арсенида галлия с дельта-слоем при различном содержании марганца в последнем. Исследованные образцы выращивались с использованием технологии, комбинирующей газофазную эпитаксию из металлорганических соединений и лазерное распыление мишеней Mn и GaAs при пониженной температуре (Tg=400oC). Увеличение содержания Mn в дельта-слое от нуля до 0.35 долей монослоя приводило к росту усредненного по приповерхностной области встроенного электрического поля с 14 до 25 kV/cm. Полученные данные хорошо согласуются с результатами самосогласованного решения уравнений Шредингера и Пуассона для реального профиля распределения примеси марганца.