Вышедшие номера
Полевая ионная микроскопия деформационных эффектов в приповерхностном объеме ионно-имплантированных металлов (Ir)
Ивченко В.А.1, Сюткин Н.Н.1
1Институт электрофизики Уральского отделения РАН, Екатеринбург, Россия
Поступила в редакцию: 2 ноября 1998 г.
Выставление онлайн: 17 февраля 1999 г.

Методом полевой ионной микроскопии установлен деформационный эффект воздействия ионной имплантации (E=20 keV, D=1018 ion/cm2, - j=300 muA/cm2) на приповерхностный объем чистого иридия. Эффект проявляется в повышенной плотности различного типа дефектов в приповерхностном объеме (~ 50 nm от облученной поверхности) материала.