Представлены результаты исследования профилей распределения внедренных атомов Ti при высоких дозах имплантации (флюенс около 10¹⁷ cm^-2) по глубине нанокристаллической керамики на основе нитрида бора (BN). Наблюдается смещение максимумов концентрации примеси внедрения в глубь подложки при послеимплантационном отжиге в вакууме при температуре 950^o C. Такое поведение примеси внедрения в BN прямо противоположно результату, полученному ранее при исследовании образцов керамики на основе поликристаллического оксида алюминия, подвергнутых аналогичной ионно-термической обработке. Оценен эффективный коэффициент диффузии атомов титана в BN при термическом отжиге. Соотношение концентраций Ti/O в слое, модифицированном в результате имплантации и последующего отжига при 950^oC, близко к стехиометрическому TiO₂. Наблюдалось одновременное увеличение концентрации атомов углерода и азота в приповерхностных слоях образцов BN в результате отжига при температурах 830 и 950^oC.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.