Стационарные состояния ВЧ индукционного разряда низкого давления вблизи порога погасания
Зыков А.В.1, Положий К.И.1
1Харьковский государственный университет
Поступила в редакцию: 4 ноября 1999 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2000 г.
Усовершенствована самосогласованная, пространственно усредненная модель ВЧ индукционного разряда низкого давления и показано, что учет размеров приэлектродных слоев приводит к двузначной зависимости равновесной температуры электронов от давления и мощности. Установлено, что существует критическая мощность, зависящая от давления и геометрии рабочей камеры, ниже которой существование стационарного индукционного разряда невозможно. Сравнение полученных теоретических результатов с экспериментальными данными показало хорошее соответствие.
- Lee C., Graves D.B., Lieberman M.A., Hess D.W. // J. Electrochem. Soc. 1994. V. 141. P. 1546
- Lee C., Lieberman M.A. // J. Vac. Sci. Technol. 1995. A. V. 13. P. 368
- Lieberman M.A., Gottscho R.A. // Physics of Thin Films. 1994. V. 18. (Ed. M. Francombe and J. Vossen. New York: Academic)
- Gudmundson J.T., Lieberman M.A. // Plasma Sources Sci. Technol 1998. V. 7. P. 83--95
- Бондаренко В.Г., Денисов В.П., Еремин Б.Г. и др. // Физика плазмы. 1991. Т. 17. В. 6. С. 756
- Райзер Ю.П. Физика газового разряда. М.: Наука, 1987. 592 c
- Дудин С.В., Зыков А.В., Положий К.И. // Письма в ЖТФ. 1998. Т. 24. N 22
- Godyak V.A., Piejak R.B., Alexandrovich B.M. // Plasma Sources Sc. Technol. 1995. V. 4. P. 332--336
- Lieberman M.A., Ashida S. // Plasma Sources Sci. Technol. 1996. V. 5. P. 145--158
- Будянский А.М., Зыков А.В., Фареник В.И. Высокочастотный источник ионов. Патент Украины N 2426. Патент РФ N 1570549 от 28.06.93
- Suzuki K. et al. // Plasma Sources Sci. Technol. 1998. V. 7. P. 13--20
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук