Письма в журнал технической физики
Авторам
Вышедшие номера
- 2024
- 2023
- 2022
- 2021
- 2020
- 2019
- 2018
- 2017
- 2016
- 2015
- 2014
- 2013
- 2012
- 2011
- 2010
- 2009
- 2008
- 2007
- 2006
- 2005
- 2004
- 2003
- 2002
- 2001
- 2000
- 1999
- 1998
- 1997
- 1996
- 1995
- 1994
- 1993
- 1992
- 1991
- 1990
- 1989
- 1988
Влияние кислорода на взаимодействие и работу выхода в структурах Ba--Si и BaO--Si
1Киевский национальный университет им. Тараса Шевченко, Киев, Украина 
Поступила в редакцию: 2 ноября 2000 г.
Выставление онлайн: 19 марта 2001 г.
Исследовано влияние кислорода на процессы химического взаимодействия в структурах Ba-Si и BaO-Si. Нанесение тонких слоев Ba и BaO стимулирует процессы окисления поверхности кремния. При температурах Ts<= 500oC на поверхности кремниевой подложки образуется слой ортосиликата бария Ba2SiO4. Уменьшение работы выхода поверхности кремниевой подложки позволяет увеличить эмиссионные токи более чем на порядок как при формировании оксидного, так и силикатного слоя бария.
- Spindt C., Holland C., Rosengreen A., Brodie I. // IEEE Trans. Electron. Device. 1991. V. 38. N 10. P. 2355--2361
- Никонов Б.П. Оксидный катод. М., 1979. 240 с
- Усманов М.Т., Джуманов И.З., Ташатов А.К., Умирзаков Б.Е. // Взаимодействие ионов с поверхностью. Матер. XIII межд. конф. М., 1997. Т. 2. С. 311
- Belousov I.V., Ilchenko V.V., Kuznetsov G.V., Ruban A.I., Strikha V.I. // IEEE Trans. Appl. Superconducting. 1995. V. 5. N 2. P. 1510--1512
- Нефедов В.И. Рентгено-электронная спектроскопия химических соединений. Справочник. М., 1984. 256 с
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
