Вышедшие номера
Особенности фокусировки электронного пучка плазменного источника в форвакуумном диапазоне давлений
Зенин А.А.1, Бакеев И.Ю.1, Бурачевский Ю.А.1, Климов А.С.1, Окс Е.М.1
1Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники, Томск, Россия
Email: zenin1988@gmail.com
Поступила в редакцию: 29 ноября 2015 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2016 г.

В результате исследований особенностей фокусировки электронных пучков, генерируемых форвакуумным плазменным источником в области давлений 10-30 Pа, показана принципиальная возможность получения пучков субмиллиметровых размеров. При диаметре электронного пучка 0.6 mm плотность мощности пучка составила 105 W/cm2. Достигнутые параметры пучка открывают возможность прецизионной электронно-лучевой обработки диэлектрических материалов, в частности высокотемпературных алюмооксидных керамик.