Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 2016, выпуск 14 » Статья стр. 87
<<<>>>
Ионно-плазменное осаждение оксидных пленок с измененным стехиометрическим составом: эксперимент и моделирование
Вольпяс В.А.1, Тумаркин А.В.1, Михайлов А.К.1,2, Козырев А.Б.1, Платонов Р.А.1,3
1Санкт-Петербургский государственный электротехнический университет "ЛЭТИ" им. В.И. Ульянова (Ленина), Санкт-Петербург, Россия
2Университет ИТМО, Санкт-Петербург, Россия
3Дагестанский государственный университет, Махачкала, Россия
Email: r.a.platonov@gmail.com
Поступила в редакцию: 9 ноября 2015 г.
Выставление онлайн: 19 июня 2016 г.
PDF версия
Предложен метод ионно-плазменного осаждения тонких многокомпонентных пленок с непрерывным изменением стехиометрического состава по толщине пленки. Изменение состава по толщине происходит за счет варьирования давления рабочего газа в процессе осаждения при наличии в пространстве дрейфа мишень-подложка дополнительного адсорбирующего экрана. Эффективность предложенного метода подтверждается результатами численного моделирования методом Монте-Карло на примере осаждения тонких пленок твердого раствора BaxSr1-xTiO3 (BSTO). Показано, что при распылении мишени состава Ba0.3Sr0.7TiO3 параметр стехиометрии растущей пленки BSTO изменяется в интервале x = 0.3-0.65 при изменении давления рабочего газа в пределах 2-60 Pa.
  1. Scigaj M., Dix N., Fina I., Bachelet R. et al. // Appl. Phys. Lett. 2013. V. 102. N 11. P. 112 905
  2. An H.L., Fleming S. // Appl. Phys. Lett. 2012. V. 101. N 10. P. 101 101
  3. Pogrebnjak A.D., Bagdasaryan A.A., Yakushchenko I.V., Beresnev V.M. // Rus. Chem. Rev. 2014. V. 83. N 11. P. 1027--1061
  4. Тумаркин А.В., Альмяшев В.И., Разумов С.В., Гайдуков М.М. и др. // ФТТ. 2015. Т. 57. N 3. С. 540
  5. Xinhua Zhu, Helen Lai-Wah Chan, Chung-Loong Choy, Kin-hung Wong // J. Vac. Sci. Technol. A. 2002. V. 20. P. 1796
  6. Joe Sakai, Cecile Autret-Lambert, Thierry Sauvage et al. // J. Cryst. Growth. 2013. V. 380. P. 106--110
  7. Turner G.M., Falconer I.S., James B.W., McKenzie D.R. // J. Appl. Phys. 1989. V. 65. N 9. P. 3671--3679
  8. Depla D., Mahieu S. Reactive Sputter Deposition. Berlin: Springer, 2008
  9. Volpyas V.A., Kozyrev A.B. // J. Exp. Theor. Phys. 2011. V. 113. N 1. P. 172--179
  10. Volpyas V.A., Komlev A.Y., Platonov R.A., Kozyrev A.B. // Phys. Lett. A. 2014. V. 378. P. 3182--3184
  11. Volpyas V.A., Dymashevski P.M. // Techn. Phys. 2001. V. 46. N 11. P. 1347--1350
  12. Volpyas V.A., Kozyrev A.B., Osadchy V.N., Mikhailov V.N. // Patent application N RU2012/000804 10.04.2014

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme