Особенности протекания тока в структурах на основе барьера Шоттки Au/Ti/n-InAlAs
Чистохин И.Б.
1, Аксенов М.С.
1, Валишева Н.А.
1, Дмитриев Д.В.
1, Журавлев К.С.
1,2, Гузев А.А.
11Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
2Новосибирский государственный университет, Новосибирск, Россия
Email: igor@isp.nsc.ru, aksenov@isp.nsc.ru, valisheva@isp.nsc.ru, ddmitriev@isp.nsc.ru, zhur@isp.nsc.ru, guzev@isp.nsc.ru
Поступила в редакцию: 9 января 2017 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2017 г.
Исследованы вольт-амперные характеристики барьеров Шоттки Au/Ti/ n-InAlAs/InP в температурном диапазоне 100-380 K. Показано, что при повышении температуры от 100 до 200 K коэффициент идеальности уменьшается от 1.58 до 1.1, а высота барьера повышается от 0.55 до 0.69 eV. При дальнейшем повышении температуры от 200 до 380 K коэффициент идеальности и высота барьера изменяются слабо. Такое поведение хорошо согласуется с моделью латеральной неоднородности высоты барьера (модель Танга), что подтверждается линейной зависимостью высоты барьера от коэффициента идеальности в диапазоне температур 100-200 K. В соответствии с этой моделью были рассчитаны значения высоты барьера гомогенного перехода 0.88 eV, среднеквадратичного отклонения 10-4cm2/3· V1/3 гауссова распределения высоты барьера, эффективной площади областей с пониженной высотой барьера 3.7· 10-11 cm2 и постоянной Ричардсона 10.7 A· cm-2· K-2. DOI: 10.21883/PJTF.2017.12.44712.16700
- Berceli T., Herczfeld P. // IEEE Trans. Microw. Theory Tech. 2010. V. 58. P. 2992
- Chizh A., Malyshev S., Mikitchuk K. // 2015 International Topical Meeting on Microwave Photonics (MWP). 2015. P. 1
- Lien Y. et al. // Appl. Phys. Lett. 2006. V. 89. P. 083517
- Rhoderick E.H., Williams R.H. Metal-Semiconductor Contacts. Clarendon Press, Oxford, University Press, Oxford, 1988
- Hamdaoui N. et al. // Mater. Sci. Semicon. Process. 2014. V. 26. P. 431
- Soylu M., Abay B. // Microelectron. Eng. 2009. V. 86. P. 88
- Korkut H., Yildirim N., Turut A. // Microelectron. Eng. 2009. V. 86. P. 111
- Tung R. // Phys. Rev. B. 1992. V. 45. P. 13509
- Tung R., Sullivan J., Schrey E. // Mater. Sci. Eng. B. 1992. V. 14. P. 266
- Sullivan J., Tung R., Pinto M., Graham W. // J. Appl. Phys. 1991. V. 70. P. 7403
- Hardikar S. et al. // Appl. Phys. A. 1999. V. 68. P. 49
- Korucu D., Turut A., Efeoglu H. // Physica B. 2013. V. 414. P. 35
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.