Предлагается методика формирования слоев пористого германия (P-Ge) с наночастицами Ag, основанная на низкоэнергетической высокодозовой имплантации ионами металла монокристаллического германия (c-Ge). Для ее демонстрации проведена имплантация ионами Ag⁺ полированной пластины c-Ge с энергией 30 keV при дозе 1.5· 10¹⁷ ion/cm² и плотности тока в ионном пучке 5 muA/cm². Методами высокоразрешающей сканирующей электронной и атомно-силовой микроскопии, а также рентгеноспектрального микрозондового анализа и дифракции отраженных электронов показано, что в результате проведенной имплантации на поверхности c-Ge формируется пористый аморфный слой P-Ge губчатой структуры, состоящей из сетки пересекающихся нанонитей, средний диаметр которых составляет ~ 10-20 nm. На концах нитей прослеживается образование наночастиц Ag. Также установлено, что формирование пор при проведении имплантации ионами Ag⁺ сопровождается эффективным распылением поверхности Ge.

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.