Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 2021, выпуск 11 » Статья стр. 30
<<<>>>
Формирование наноразмерных ферромагнитных филаментов Ni в пленках ZrO2(Y)
DOI: 10.21883/PJTF.2021.11.51004.18665
Российский фонд фундаментальных исследований (РФФИ), конкурс «А», 20-02-00830
RFBR, «А», 20-02-00830
Антонов Д.А.1, Новиков А.С.1, Филатов Д.О.1, Круглов А.В.1, Антонов И.Н.1, Здоровейщев А.В.1, Горшков О.Н.1
1Нижегородский государственный университет им. Н.И. Лобачевского, Нижний Новгород, Россия
Email: antonov@phys.unn.ru
Поступила в редакцию: 21 декабря 2020 г.
В окончательной редакции: 7 марта 2021 г.
Принята к печати: 9 марта 2021 г.
Выставление онлайн: 7 апреля 2021 г.
PDF версия
В тонких пленках ZrO2(Y)/Ni с помощью зонда атомно-силового микроскопа сформированы проводящие ферромагнитные филаменты нанометровых размеров, состоящие из атомов Ni. Контакт зонда к таким пленкам (виртуальное составное мемристорное устройство) демонстрировал резистивное переключение биполярного типа, связанное с разрушением и восстановлением Ni-филаментов в пленке ZrO2(Y). Область выхода проводящего филамента на поверхность пленки ZrO2(Y) проявлялась на магнитно-силовом изображении как однодоменная ферромагнитная частица. Ключевые слова: мемристор, резистивное переключение, атомно-силовая микроскопия, ферромагнитные филаменты.
  1. H.-J. Jang, O.A. Kirillov, O.D. Jurchescu, C.A. Richter, Appl. Phys. Lett., 100 (4), 43510 (2012). DOI: 10.1063/1.3679114
  2. F. Wang, L. Li, L. Shi, H. Wu, L. Chua, J. Appl. Phys., 125 (5), 54504 (2019). DOI: 10.1063/1.5042281
  3. L. Li, Y. Liu, J. Teng, S. Long, Q. Guo, M. Zhang, Y. Wu, G. Yu, Q. Liu, H. Lv, M. Liu, Nanoscale Res. Lett., 12, 210 (2017). DOI: 10.1186/s11671-017-1983-2
  4. S. Otsuka, Y. Hamada, D. Ito, T. Shimizu, S. Shingubara, Jpn. J. Appl. Phys., 54 (5S), 05ED02 (2015). DOI: 10.7567/JJAP.54.05ED02
  5. Z. Yang, Q. Zhan, X. Zhu, Y. Liu, H. Yang, B. Hu, J. Shang, L. Pan, B. Chen, R.-W. Li, Europhys. Lett., 108 (5), 58004 (2014). DOI: 10.1209/0295-5075/108/58004
  6. S. Otsuka, Y. Hamada, T. Shimizu, S. Shingubara, Appl. Phys A, 118 (2), 613 (2015). DOI: 10.1007/s00339-014-8769-5
  7. M. Lubben, I. Valov, Adv. Electron. Mater., 5 (9), 1800933 (2019). DOI: 10.1002/aelm.201800933
  8. M. Lanza, Conductive atomic force microscopy: applications in nanomaterials (Wiley-VCH Verlag, Weinheim, 2017)
  9. D.O. Filatov, D.A. Antonov, I.N. Antonov, A.P. Kasatkin, O.N. Gorshkov, J. Mater. Sci. Chem. Eng., 5 (1), 8 (2017). DOI: 10.4236/msce.2017.51002
  10. S.H. Lee, X. Zhu, W.D. Lu, Nano Res., 13 (5), 1228 (2020). DOI: 10.1007/s12274-020-2616-0
  11. D.V. Ovchinnikov, A.A. Bukharaev, AIP Conf. Proc., 696, 634 (2003). DOI: 10.1063/1.1639762

Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.

Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.

Учредители

Издатель

© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme