Формирование текстуры (100) в тонких пленках Ti под действием низкоэнергетической ионной бомбардировки
Селюков Р.В.
1, Изюмов М.О.
1, Наумов В.В.
1, Мазалецкий Л.А.
21Ярославский филиал Физико-технологического института им. К.А. Валиева РАН, Ярославль, Россия
2Ярославский государственный университет им. П.Г. Демидова, Ярославль, Россия
Email: mikhail-izyumov@yandex.ru, vvnau@rambler.ru, rvselyukov@mail.ru
Поступила в редакцию: 31 мая 2021 г.
В окончательной редакции: 29 августа 2021 г.
Принята к печати: 30 августа 2021 г.
Выставление онлайн: 3 октября 2021 г.
Пленки Ti толщиной 10-40 nm, имеющие исходно смешанную текстуру (100)+(001), подвергались ионной бомбардировке в плазме Ar высокочастотного индукционного разряда при приложении к ним отрицательного напряжения смещения -30 V. Найдено, что такая обработка способствует формированию в пленках текстуры (100). Данный результат объяснен возникновением в пленке сжимающих напряжений в результате ионной бомбардировки. Чем меньше толщина пленки, тем меньшее время обработки требуется для образования текстуры (100). Ключевые слова: текстура, ионная бомбардировка, титан, тонкие пленки.
- S. Yoo, Y.-H. Kim, C.S. Yoon, J. Vac. Sci. Technol. B, 19 (3), 856 (2001). DOI: 10.1116/1.1362681
- J.-H. Huang, C.-H. Ma, H. Chen, Surf. Coat. Technol., 200 (20-21), 5937 (2006). DOI: 10.1016/j.surfcoat.2005.09.005
- D.L. Ma, Y.T. Li, Q.Y. Deng, B. Huang, Y.X. Leng, N. Huang, Int. J. Mod. Phys. B, 33 (01n03), 1940017 (2019). DOI: 10.1142/S0217979219400174
- G. Priyadarshini, S. Aich, M. Chakraborty, Bull. Mater. Sci., 37 (7), 1691 (2014). DOI: 10.1007/s12034-014-0722-x
- А.С. Бабушкин, И.В. Уваров, И.И. Амиров, ЖТФ, 88 (12), 1845 (2018). DOI: 10.21883/JTF.2018.12.46786.37-18
- K. Kamoshida, Y. Ito, J. Vac. Sci. Technol. B, 15 (4), 961 (1997). DOI: 10.1116/1.589515
- И.И. Амиров, М.О. Изюмов, В.В. Наумов, Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, N 8, 82 (2016). DOI: 10.7868/S0207352816080047R
- W.E. Sweeney, Jr., R.E. Seebold, L.S. Birks, J. Appl. Phys., 31 (6), 1061 (1960). DOI: 10.1063/1.1735746
- R. Checchetto, Thin Solid Films, 302 (1-2), 77 (1997). DOI: 10.1016/S0040-6090(96)09552-1
- F.J. Jing, T.L. Yin, K. Yukimura, H. Sun, Y.X. Leng, N. Huang, Vacuum, 86 (12), 2114 (2012). DOI: 10.1016/j.vacuum.2012.06.003
- A. Babushkin, R. Selyukov, I. Amirov, Proc. SPIE, 11022, 1102223 (2019). DOI: 10.1117/12.2521617
- E. Chason, J.W. Shin, S.J. Hearne, L.B. Freund, J. Appl. Phys., 111 (8), 083520 (2012). DOI: 10.1063/1.4704683
- Я.С. Уманский, Ю.А. Скаков, А.Н. Иванов, Л.Н. Расторгуев, Кристаллография, рентгенография и электронная микроскопия (Металлургия, М., 1982), с. 180
- R. Banerjee, E.A. Sperling, G.B. Thompson, H.L. Fraser, S. Bose, P. Ayyub, Appl. Phys. Lett., 82 (24), 4250 (2003). DOI: 10.1063/1.1582361
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
