Инжекционный отжиг гетероструктур на основе GaN и GaAs, облученных нейтронами и гамма-квантами
Носовец В.С.
1,2, Ткачев О.В.
1, Дубровских С.М.
1, Хорошенина Е.Д.
1, Пустоваров В.А.
21Российский федеральный ядерный центр --- Всероссийский научно-исследовательский институт технической физики им. акад. Е.И. Забабахина, Снежинск, Челябинская обл., Россия
2Уральский федеральный университет им. первого Президента России Б.Н. Ельцина, Екатеринбург, Россия

Email: dep5@vniitf.ru
Поступила в редакцию: 14 марта 2025 г.
В окончательной редакции: 25 апреля 2025 г.
Принята к печати: 25 апреля 2025 г.
Выставление онлайн: 23 июня 2025 г.
Показано, что облученные гамма-квантами GaAs- и GaN-гетероструктуры полностью восстанавливаются инжекционным током в отличие от образцов, облученных нейтронами. Обнаружен пороговый характер зависимости скорости инжекционного отжига от плотности тока. Пороговая плотность тока отжига в образцах, облученных нейтронами, на порядок больше, чем в образцах, облученных гамма-квантами. Результаты указывают на различную высоту потенциального барьера, создаваемого кластерами радиационных дефектов в GaN и GaAs. Ключевые слова: радиационные дефекты, инжекционный отжиг, гамма-излучение, нейтроны, кластеры, светодиоды.
- V.M. Lomako, A.M. Novoselov, Phys. Status Solidi A, 60, 557 (1980). DOI: 10.1002/pssa.2210600227
- A. Johnston, IEEE Trans. Nucl. Sci., 50 (3), 689 (2003). DOI: 10.1109/TNS.2003.812926
- K. Gill, R. Grabit, J. Troska, F. Vasey, IEEE Trans. Nucl. Sci., 49, 19 (2002). DOI: 10.1109/TNS.2002.805422
- В.С. Носовец, О.В. Ткачев, С.М. Дубровских, В.А. Пустоваров, Письма в ЖТФ, 50 (13), 28 (2024). DOI: 10.61011/PJTF.2024.13.58164.19899 [V.S. Nosovets, O.V. Tkachev, S.M. Dubrovskikh, V.A. Pustovarov, Tech. Phys. Lett., 50 (7), 24 (2024). DOI: 10.61011/TPL.2024.07.58721.19899]
- A. Khan, M. Yamaguchi, N. Dharmaso, J. Bourgoin, K. Ando, T. Takamoto, Jpn. J. Appl. Phys., 41 (3R), 1241 (2002). DOI: 10.1143/JJAP.41.1241
- J.C. Bourgoin, J.W. Corbett, Rad. Effects, 36, 157 (1978). DOI: 10.1080/00337577808240846
- Z. Zhang, E. Farzana, W.Y. Sun, J. Chen, E.X. Zhang, D.M. Fleetwood, R.D. Schrimpf, B. McSkimming, E.C.H. Kyle, J.S. Speck, A.R. Arehart, S.A. Ringel, J. Appl. Phys., 118, 155701 (2015). DOI: 10.1063/1.4933174
- H.-Y. Kim, J. Kim, F. Ren, J. Vac. Sci. Technol. B, 28 (1), 27 (2010). DOI: 10.1116/1.3268136
- F. Schubert, Light-emitting diodes (Cambridge University Press, N.Y., 2006)
- F. Bergner, A. Ulbricht, H. Hein, M. Kammel, J. Phys.: Condens. Matter, 20, 104262 (2008). DOI: 10.1088/0953-8984/20/10/104262
- В.П. Шукайло, С.В. Оболенский, Н.В. Басаргина, И.В. Ворожцова, С.М. Дубровских, О.В. Ткачев, Вестн. Нижегород. ун-та им. Н.И. Лобачевского, N 5 (1), 60 (2012)
- P.A. Schultz, J. Phys.: Condens. Matter, 27 (7), 0750801 (2015). DOI: 10.1088/0953-8984/27/7/075801
- А.В. Скупов, С.В. Оболенский, Поверхность. Рентгеновские, синхротронные и нейтронные исследования, N 11, 53 (2020). DOI: 10.31857/S1028096020110163 [A.V. Skupov, S.V. Obolenskii, J. Surf. Investig., 14, 1160 (2020). DOI: 10.1134/S1027451020060166]
- В.Н. Брудный, А.В. Кособуцкий, Н.Г. Колин, Фундаментальные проблемы современного материаловедения, 5 (1), 76 (2008)
- G.J. Shaw, R.J. Walters, S.R. Messenger, G.P. Summers, J. Appl. Phys., 74, 1629 (1993). DOI: 10.1063/1.354812