Статистическое моделирование процесса осаждения тонких пленок высокотемпературного сверхпроводника YBa2Cu3O7-x при ионно-плазменном распылении
Вольпяс В.А.1, Разумов С.В.1, Тумаркин А.В.1, Козырев А.Б.1
1С.-Петербургский государственный электротехнический университет
Email: thinfilm@eltech.ru
Поступила в редакцию: 15 октября 2003 г.
Выставление онлайн: 19 марта 2004 г.
Разработана модель процесса осаждения тонких многокомпонентных пленок при ионно-плазменном распылении аморфных и поликристаллических материалов. На основе этой модели рассчитаны значения скорости осаждения, неравномерности по толщине тонких пленок высокотемпературных сверхпроводников на основе керамики YBCO. Сравнение результатов статистического моделирования в рамках разработанной модели с экспериментальными данными по скорости осаждения пленок показало, что предложенная модель достаточно корректно описывает процессы ионно-плазменного распыления. Полученные результаты положены в основу оптимизации технологического процесса осаждения тонких многокомпонентных пленок при ионно-плазменном распылении. Энергетический диапазон применения разработанной модели процесса осаждения тонких многокомпонентных пленок при ионной бомбардировке (до 1-3 keV) представляет интерес для многих прикладных задач физики и технологии ионного и ионно-плазменного распыления материалов.
- Vassenden F., Linker G., Geerk J. // Physica C. 1991. V. 175. P. 566--572
- Sievers S., Mattheis F., Krebs H. // Appl. Phys. 1995. V. 78. P. 5545--5548
- Carim A.H., Basu S.N., Muenchausen R.E. // Appl. Phys. Lett. 1991. V. 58. N 8. P. 871--873
- Nieh C.W., Anthony L., Losefowicz J.Y. et al. // Appl. Phys. Lett. 1990. V. 56. P. 2138--2140
- Hollmann E.K., Razumov S.V., Tumarkin A.V. // Physica C. 2000. V. 338. P. 246--250
- Вольпяс В.А., Дымашевский П.М. // ЖТФ. 2001. Т. 71. В. 11. С. 1--5
- Вольпяс В.А., Гольман Е.К., Цукерман М.А. // ЖТФ. 1996. Т. 66. В. 4. С. 16--23
- Вольпяс В.А., Козырев А.Б. Физика слабоионизованной плазмы (монография). СПб: ТОО "Складень", 1997. 130 с. ( Volpyas V.A., Kozyrev A.B. // Physics of weakly-ionized plasma (monograph). SPb.: "Skladen" publishing, 1997. 130 p.)
- Вольпяс В.А., Гольман Е.К. // ЖТФ. 2000. Т. 70. В. 3. С. 13--18
- Volpyas V.A., Petrov P.K., Chakalov R.A. // Vacuum. 1999. V. 52. P. 427--434
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук