О формировании объемных элементов микроэлектромеханических систем в полиимиде методом реактивного ионно-лучевого травления
Стогний А.И.1, Ореховская Т.И.1, Тимошков Ю.В.1, Корякин С.В.1
1Институт физики твердого тела и полупроводников НАН Беларуси, Минск
Email: stognij@ifttp.bas-net.by
Поступила в редакцию: 1 августа 2000 г.
Выставление онлайн: 20 января 2001 г.
Экспериментально решается основная задача получения микроэлектромеханических систем - формирование анизотропного профиля с отвесными боковыми стенками и чистым дном в толстом слое резиста. Показано, что указанная цель достигается путем оптимизации параметров реактивного ионно-лучевого травления слоев полиимида толщиной до 50 mum. Последнее подтверждается на примере формирования объемных деталей микроэлектродвигателя с использованием травления полиимида пучком ионов кислорода (плотность тока ионного пучка j=0.5 mA/cm2, напряжение экстракции ионов U=800 V).
- Lochel B., Maciossek A., Konig M. et al. // Microelectronic Engineering. 1994. V. 23. P. 455--459
- Lochel B., Maciossek A., Quenzer H.J., Waqner B. // J. Electrochem. Soc. 1996. V. 143 (1). P. 237--244
- Plasma Processing for VLSI / Ed. by N.G. Einspruch, D.M. Brown // VLSI Electronics Macrostructure Science. V. 8. New York: Academic Press, Inc., 1984
- Стогний А.И., Токарев В.В. // ПТЭ. 1990. N 3. С. 142--146
- Kinoshita H. // Vacuum. 1999. V. 55. P. 77--80
- Амиров И.И. ЖТФ. 2000. Т. 70. В. 5. С. 106--108
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.
© 2024 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук