Вышедшие номера
Влияние формы плавника и толщины скрытого оксидного слоя на DIBL-эффект в FinFET-транзисторе, изготовленном по технологии "кремний на изоляторе"
Переводная версия: 10.1134/S1063785018110020
Министерство инновационного развития республики Узбекистан, Фундаментальные исследования, ОТ-Ф2-67
Абдикаримов А.Э.1, Юсупов А.2, Атамуратов А.Э.1
1Ургенческий государственный университет, Ургенч, Узбекистан
2Ташкентский университет информационных технологий им. Мухаммада аль-Хорезмий, Ташкент, Узбекистан
Email: atabek.atamuratov@yahoo.com
Поступила в редакцию: 12 апреля 2018 г.
Выставление онлайн: 20 октября 2018 г.

Моделируется зависимость эффекта уменьшения барьера, индуцированного стоком (DIBL-эффект), от толщины скрытого оксидного слоя в плавниковом вертикальном МОП-транзисторе (FinFET), основанном на технологии "кремний на изоляторе". Рассматривались три формы плавника, поперечные сечения которых представляют собой прямоугольник, трапецию и треугольник. DIBL-эффект заметно зависит как от толщины скрытого оксидного слоя, так и от формы плавника. Наименьший DIBL-эффект проявляется при малых толщинах скрытого оксидного слоя для треугольного сечения плавника. Такое поведение DIBL-эффекта строго коррелирует с поведением паразитной емкости между затвором и истоком.