Вышедшие номера
Home » Письма в журнал технической физики » Год 2025, выпуск 3 » Статья стр. 38
<<<>>>
Исследование распределения вытягиваемого ионного тока при встречном развитии каналов поверхностного барьерного разряда
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации, соглашение № 075-15-2024-543 от 24.04.2024
Воеводин В.В. 1,2, Коржова О.И. 1, Хомич В.Ю. 1, Ямщиков В.А. 1
1Институт электрофизики и электроэнергетики РАН, Санкт-Петербург, Россия
2Институт теплофизики им. С.С. Кутателадзе СО РАН, Новосибирск, Россия
Email: vvvoevodin@ieeras.ru, oikorzhova@ieeras.ru
Поступила в редакцию: 23 июля 2024 г.
В окончательной редакции: 7 октября 2024 г.
Принята к печати: 7 октября 2024 г.
Выставление онлайн: 13 февраля 2025 г.
PDF версия
Представлены результаты регистрации пространственно-временного распределения ионного тока и перенесенного заряда из плазмы поверхностного барьерного разряда при встречном развитии его каналов. Показано влияние на него расстояния между двумя электродами и полярности высокого напряжения. Ключевые слова: поверхностный барьерный разряд, ионный ток, импульсное напряжение, электрогидродинамика.
  1. E. Moreau, J. Phys. D: Appl. Phys., 40 (3), 605 (2007). DOI: 10.1088/0022-3727/40/3/S01
  2. С.И. Мошкунов, С.В. Небогаткин, И.Е. Ребров, В.Ю. Хомич, В.А. Ямщиков, Прикладная физика, N 6, 32 (2011)
  3. B.K.H.L. Boekema, M. Vlig, D. Guijt, K. Hijnen, S. Hofmann, P. Smits, A. Sobota, E.M. van Veldhuizen, P. Bruggeman, E. Middelkoop, J. Phys. D: Appl. Phys., 49 (4), 044001 (2016). DOI: 10.1088/0022-3727/49/4/044001
  4. S. Muller, R.-J. Zahn, J. Grundmann, Plasma Process. Polym., 4 (S1), S1004 (2007). DOI: 10.1002/ppap.200732317
  5. S.A. Krivov, I.A. Moralev, A.V. Lazukin, I.V. Selivonin, IEEE Trans. Plasma Sci., 48 (7), 2442 (2020). DOI: 10.1109/TPS.2020.2997979
  6. M.V. Kozlov, M.V. Sokolova, A.G. Temnikov, V.V. Timatkov, I.P. Vereshchagin, Plasmas Polym., 8 (3), 179 (2003). DOI: 10.1023/A:1024809205202
  7. M.V. Sokolova, V.V. Voevodin, Ju.I. Malakhov, N.L. Aleksandrov, E.M. Anokhin, V.R. Soloviev, J. Phys. D: Appl. Phys., 52 (32), 324001 (2019). DOI: 10.1088/1361-6463/ab20ef
  8. А.В. Лазукин, И.В. Селивонин, М.Э. Пинчук, И.А. Моралев, С.А. Кривов, Изв. вузов. Физика, 61 (9-2), 152 (2018)
  9. А.В. Лазукин, А.М. Никитин, Г.А. Романов, Письма в ЖТФ, 47 (19), 12 (2021). DOI: 10.21883/PJTF.2021.19.51505.18812 [A.V. Lazukin, A.M. Nikitin, G.A. Romanov, Tech. Phys. Lett., 48 (13), 34 (2022). DOI: 10.21883/TPL.2022.13.53567.18812]
  10. G. Neretti, A.C. Ricchiuto, C.A. Borghi, J. Phys. D: Appl. Phys., 51 (32), 324004 (2018). DOI: 10.1088/1361-6463/aacfcb
  11. V.Yu. Khomich, I.E. Rebrov, V.V. Voevodin, V.A. Yamshchikov, Ya.E. Zharkov, J. Phys. D: Appl. Phys., 55 (27), 275204 (2022). DOI: 10.1088/1361-6463/ac6548
  12. М.В. Малашин, С.И. Мошкунов, И.Е. Ребров, В.Ю. Хомич, Е.А. Шершунова, ПТЭ, N 2, 53 (2014). DOI: 10.7868/S0032816214010285 [M.V. Malashin, S.I. Moshkunov, I.E. Rebrov, V.Yu. Khomich, E.A. Shershunova, Instrum. Exp. Tech., 57 (2), 140 (2014). DOI: 10.1134/S0020441214010242]
  13. M.J. Johnson, D.B. Go, Plasma Sources Sci. Technol., 27 (5), 059501 (2018). DOI: 10.1088/1361-6595/aa88e7
  14. B. Zhang, J. He, Y. Ji, IEEE Trans. Dielectr. Electr. Insul., 24 (2), 923 (2017). DOI: 10.1109/TDEI.2017.006542
  15. C.A.P. Zevenhoven, R.D.J. Wierenga, B. Scarlett, H. Yamamoto, J. Electrostat., 32 (2), 133 (1994). DOI: 10.1016/0304-3886(94)90004-3

Учредители

Издатель

© 2025 Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе Российской академии наук
Powered by webapplicationthemes.com - High quality HTML Theme