Вышедшие номера
Условия осаждения и спектр плотности состояний пленок a-Si1-xCx:H, полученных высокочастотным распылением
Свиркова Н.Н.1, Феликов В.А.1, Лигачев В.А.1
1Московский энергетический институт (Технический университет), Москва, Россия
Поступила в редакцию: 10 мая 1994 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 1994 г.

Тонкие (1.3-4.7 мкм) пленки a-Si1-xCx:H получали высокочастотным ионно-плазменным распылением сплавной SiC-мишени в атмосфере аргон-водород при различных значениях мощности разряда. С целью выявления характера воздействия условий получения на свойства пленок проведены исследования спектров плотности состояний в диапазоне энергий 0.3-3.0 эВ тремя различными методами. В диапазоне 1.8-3.0 эВ исследования проводились оптическими методами, в диапазоне 1.0-2.3 эВ - методом постоянного фотоответа, а в окрестности уровня Ферми (0.3-0.5 эВ) - методом токов, ограниченных пространственным зарядом. Исследования спектров плотности состояний выполнены при комнатной температуре. Анализ полученных результатов показал, что спектры плотности состояний исследованных пленок в значительной степени зависят от условий приготовления. Выявлены параметры спектров, подверженные существенному влиянию условий осаждения материала.