ЭПР и электрофизические свойства монокристаллических слоев PbTe : Mn, выращенных методом лазерной эпитаксии
Пляцко С.В.1, Громовой Ю.С.1, Костюнин Г.Е.1
1Институт полупроводников АН УССР, Киев
Выставление онлайн: 17 февраля 1991 г.
На "холодных" подложках (Tn=300/400 K) методом ИК лазерной эпитаксии впервые получены непосредственно из легированного источника пленки РbТе : Мn. Исследованы структурные, электрофизические свойства и ЭПР тонких пленок РbТе : Мn. Показано, что в выращенных пленках примесь Мn занимает преимущественно узельное положение и проявляет псевдодонорный характер.
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.