Вышедшие номера
Об использовании методов позитронной аннигиляционной спектроскопии к изучению радиационно-стимулированных процессов в халькогенидных стеклообразных полупроводниках
Кавецкий Т.С.1, Цмоць В.М.1, Шауша О.2, Степанов А.Л.3,4
1Дрогобычский государственный педагогический университет им. И. Франко, Дрогобыч, Украина
2Институт физики Словацкой академии наук, Братислава, Словакия
3Казанский физико-технический институт им. Е.К. Завойского, ФИЦ Казанский научный центр РАН, Казань, Россия
4Казанский (Приволжский) федеральный университет, Казань, Россия
Поступила в редакцию: 8 апреля 2013 г.
Выставление онлайн: 20 декабря 2013 г.

Исследованы необлученные и gamma-облученные (средняя энергия E = 1.25 МэВ, доза Phi = 2.41 МГр) халькогенидные стеклообразные полупроводники (ХСП) As2S3 и Ge15.8As21S63.2 с помощью измерений временного распределения аннигиляционных фотонов (ВРАФ) и доплеровского уширения аннигиляционной линии с энергией 0.511 МэВ (ДУАЛ). Применялись два источника позитронов 22Na, имеющих активности 0.6 и 2.0 МБк и толщины каптоновой пленки 8.0 и 25.0 мкм. Показано, что в данных типах ХСП обнаруженные радиационно-индуцированные изменения параметров ВРАФ находятся в пределах экспериментальной погрешности измерений. Метод ДУАЛ оказался более эффективным и точным для изучения радиационно- стимулированных процессов в ХСП.