Пробой барьера Шоттки в Si, стимулированный дрейфом экситонов в неоднородном электрическом поле при 4.2 K
Поступила в редакцию: 6 февраля 1996 г.
Выставление онлайн: 20 мая 1997 г.
Приводятся результаты экспериментального обнаружения и исследования механизма стимулирования пробоя барьера Шоттки на кремнии, фотовозбужденного в сильных электрических полях при T=4.2 K. Исследовано влияние интенсивности фотовозбуждения, величины электрического поля, а также влияние времени их взаимной задержки на механизм пробоя барьера. На основе анализа результатов показано, что пробой барьера Шоттки связан с сужением ширины области пространственного заряда вследствие дрейфа экситонов в неоднородном электрическом поле и рекомбинации электронов на ионизированных примесных уровнях барьера.
- Э.Х. Родерик. Контакты металл--полупроводник (М., Радио и связь, 1982)
- В.И. Стриха, Е.В. Бузанева, И.А. Радзиевский. Полупроводниковые приборы с барьером Шоттки (М., Сов. радио, 1974)
- Б.М. Ашкинадзе, Ф.К. Султанов. Письма ЖЭТФ, 16, 271 (1972)
- R.B. Hamond, R.N. Silver. Appl. Phys. Lett., 36, 68 (1980)
- W. Schmid. Phys. St. Sol. (b), 84, 529 (1977)
- З.С. Грибников. ФТТ, 11, 2111 (1977)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.