Вышедшие номера
Влияние природы бомбардирующих ионов на образование радиационных дефектов в кремнии
Барабаненков М.Ю.1, Леонов А.В.1, Мордкович В.Н.1, Омельяновская Н.М.1
1Институт проблем технологии микроэлектроники и особочистых материалов Российской академии наук, Черноголовка, Россия
Поступила в редакцию: 30 июня 1997 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1998 г.

Методом нестационарной емкостной спектроскопии глубоких уровней (DLTS) изучено влияние природы имплантированных ионов на формирование электрически активных дефектов в кремнии. Имплантация ионов кислорода O+ и азота N+ дозами 2· 1011 см-2 с энергией 75 кэВ и ионов аргона Ar+ дозой 7· 1010 см-2 с энергией 150 кэВ при температуре мишени 300 K обеспечивала во всех образцах n- и p-Si приблизительно одинаковое количество и пространственное распределение первичных радиационных дефектов. Обнаружено, что спектр устойчивых радиационных дефектов зависит от природы бомбардирующего иона. Так, DLTS-спектр n-Si, облученного ионами O+, имеет три пика, в то время как в спектре n-Si, имплантированного ионами N+, присутствует только один из них. В спектрах DLTS образцов n- и p-Si, имплантированных ионами O+ и N+, обнаружены пики обратной полярности (аномальные), энергетическое положение которых соответствует наиболее выраженным пикам в спектрах образцов кремния противоположного типа проводимости.