Долговременные релаксации фотопроводимости, обусловленные радиационными дефектами в p-Si
Поступила в редакцию: 2 июля 1998 г.
Выставление онлайн: 19 апреля 1999 г.
На основе представлений об уровнях прилипания проанализированы данные по релаксации фотопроводимости, связанной с одним из радиационных дефектов в p-кремнии, используемом в радиационной технологии. Исследовались дефекты, образованные дивакансиями в положительном зарядовом состоянии (W+), lambda=4 мкм. Показано, что этот дефект является уровнем прилипания по отношению к более глубоким уровням радиационных дефектов, например K-центру (что ярко проявляется после предварительной коротковолновой подсветки). В результате в фотопроводимости проявляются процессы с малыми временами релаксации. Показано также, что либо увеличение энергии электронов, используемых для введения данного радиационного дефекта до величины 15 МэВ, либо увеличение интенсивности облучения электронами с энергией 1 МэВ позволяет получить короткие релаксации фотопроводимости в данном материале.
- С.М. Рывкин. Фотоэлектрические явления в полупроводниках (М., Физматгиз, 1963)
- А. Милнз. Примеси с глубокими уровнями в полупроводниках (М., Мир, 1977)
- М.С. Юнусов, М. Каримов, Б.Л. Оксенгендлер. ФТП, 32, 264 (1998)
- Н.В. Колесников, А.А. Лебедев, С.Е. Мальханов. ФТП, 13, 812 (1979)
- С.Е. Мальханов. Петербургский журнал электроники, N 3, 16 (1997)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.