Моделирование распределения электронов в структурах AlGaAs/GaAs (delta-Si), выращенных на вицинальных поверхностях
Осадчий В.М.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 2 февраля 1999 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 1999 г.
Проведены расчеты распределения потенциала и концентрации электронов в структурах AlGaAs/GaAs (delta-Si), выращенных на вицинальных поверхностях. Показана возможность формирования латеральной сверхрешетки в этих структурах. Оценены оптимальные технологические параметры для получения сверхрешетки.
- В.И. Кадушкин, В.А. Кульбачинский, Е.В. Богданов, А.В. Сеничкин. ФТП, 28, 1889 (1994)
- В.И. Кадушкин, Е.Л. Шанина. ФТП, 30, 1676 (1996)
- Л.Д. Ландау, Е.М. Лифшиц. Квантовая механика. Нерелятивистская теория (М., Наука, 1974) с. 302
- З.Д. Квон, А.Г. Погосов. ФТП, 25, 138 (1991)
- H. Sakaki. Japan. J. Appl. Phys., 19, L735 (1980)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.