Электронные свойства структур металл--диэлектрик--полупроводник на основе InAs
Курышев Г.Л.1, Ковчавцев А.П.1, Валишева Н.А.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 14 февраля 2001 г.
Выставление онлайн: 20 августа 2001 г.
Рассмотрены особенности электронных процессов в МДП структурах на основе InAs, работающих в режиме прибора с зарядовой инжекцией и используемых в качестве фотоприемных элементов в спектральном диапазоне 2.5-3.05 мкм. В качестве диэлектрика использовалась двухслойная система из слоя анодного окисла и низкотемпературной двуокиси кремния. Показано, что введение в состав электролита фторсодержащих компонент уменьшает величину встроенного заряда и плотность поверхностных состояний до минимально измеримых величин =<sssim 2·1010 см-2·эВ-1. На основе данных по фазовому составу анодных окислов, полученных методом рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, обсуждается физико-химическая природа поверхностных состояний на границе раздела InAs-диэлектрик и возможные причины их отсутствия. Наблюдалась аномальная полевая генерация в режиме неравновесного обеднения полупроводника. Рассмотрены процессы туннельной генерации, дающие существенный вклад при больших амплитудах импульса обеднения. Исследовано поведение шума МДП структур в режиме неравновесного обеднения.
- А.В. Ржанов. Электронные процессы на поверхности полупроводников (М., Наука, 1971)
- W.E. Spicer, P. Pianetta, I. Lindau, P.W. Chye. J. Vac. Sci. Technol., 14, 885 (1977)
- И.Н. Сорокин, В.И. Козлов. Изв. АН СССР. Неорг. матер., 15 (3), 53 (1979)
- E. Von Kauer, L. Rabenau. Z. Naturforschung (a), B.13 (7), 531 (1958)
- R.L. Weiher, R.P. Ley. J. Appl. Phys., 37, 299 (1966)
- W.P. Doyle. J. Phys. Chem. Sol., 4, 144 (1958)
- Т.П. Смирнова, Н.Ф. Захарчук, А.Н. Голубенко, В.И. Белый. Новые материалы электронной техники (Новосибирск, Наука, 1990) с. 62
- В.И. Белый. В сб.: Проблемы электронного материаловедения (Новосибирск, Наука, 1986) с. 29
- G.P. Schwartz. Thin Sol. Films, 103 (1/2), 3 (1983)
- G.P. Schwartz, W.A. Sunder, I.E. Griffiths. Thin Sol. Films, 94, 205 (1982)
- C.W. Wilmsen, L.G. Meiners, D.A. Collins. Thin Sol. Films, 46 (3), 331 (1977)
- В.Н. Давыдов, Е.А. Лоскутова, И.И. Фефелова. Микроэлектроника, 15 (5), 455 (1986)
- R.K. Ahrenkiel, L.L. Kazmerski, O. Jamjoum, P.E. Russell, P.J. Jreland, R.S. Wagner. Thin Sol. Films, 95 (4), 327 (1982)
- А.П. Соловьев, Н.А. Валишева, И.И. Мараховка, И.О. Парм, С.Ю. Смирнов. А.с. N 1604097 от 1.07.1990
- Н.А. Корнюшкин, Н.А. Валишева, А.П. Ковчавцев, Г.Л. Курышев. ФТП, 30 (5), 914 (1996)
- Н.А. Валишева, Т.А. Левцова, Л.М. Логвинский, А.П. Ковчавцев, Г.Л. Курышев, А.З. Петренко, И.П. Петренко. Поверхность, N 11, 53 (1999)
- G. Lukovski, R.S. Bauer. J. Vac. Sci. Technol., 17 (5), 946 (1980)
- W.A. Harrison. Phys. Rev., 123 (1), 85 (1961)
- Л.Д. Ландау, Е.М. Лифшиц. Квантовая механика. Нерелятивистская теория. Теоретическая физика (М., Наука, 1963) т. 3, с. 211
- W.W. Anderson. Infr. Phys., 17, 147 (1977)
- H.C. Gard. Sol. St. Commun., 31, 877 (1978)
- J.C. Kim. IEEE J. Sol. St. Circ., SC-13 (1), 158 (1978)
- Н.И. Халиуллин. Микроэлектроника, 16 (5), 463 (1987)
- G.L. Kurishev, A.P. Kovchavtzev, V.M. Bazovkin, I.M. Subbotin, I.M. Zakharov, Yu.A. Shlapunov, E.S. Kogan, A.W. Bechterev. SPIE, 2746, 268 (1996)
- A.P. Kovchavtzev, E.S. Kogan, G.L. Kurishev, G.L. Logvinski. OPTO-92 (Paris, 1992) с. 620
- Г.Л. Курышев, А.П. Ковчавцев, Б.Г. Вайнер, А.А. Гузев, В.М. Базовкин, А.С. Строганов, И.М. Субботин, И.М. Захаров, В.М. Ефимов, К.О. Постников, И.И. Ли, Н.А. Валишева, З.В. Панова. Автометрия, N 4, 5 (1998)
- Г.Л. Курышев, А.П. Ковчавцев, В.М. Базовкин, А.А. Гузев, И.И. Ли, Н.А. Валишева, К.О. Постников, А.В. Яковлев, П.В. Журавлев. Автометрия, N 4, 13 (1998)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.