Применение двухслойных пленок ITO в составе отражающих контактов светодиодов синего и ближнего ультрафиолетового диапазонов
Марков Л.К.1, Смирнова И.П.1, Павлюченко А.С.1, Кукушкин М.В.2, Закгейм Д.А.1, Павлов С.И.1
1Физико-технический институт им. А.Ф. Иоффе РАН, Санкт-Петербург, Россия
2ЗАО Инновационная фирма ТЕТИС", Санкт-Петербург, Россия
Поступила в редакцию: 10 июня 2014 г.
Выставление онлайн: 19 ноября 2014 г.
Исследованы структурные и оптические свойства многослойных композиций ITO/SiO2/Ag, в которых слой ITO (оксид индия и олова) был получен двумя различными методами: электронно-лучевым испарением и комбинированным способом, включающим электронно-лучевое испарение и последующее магнетронное напыление. Показано, что отражающая способность композиции на основе пленки ITO, полученной методом электронно-лучевого испарения, существенно ниже. Это можно объяснить значительным поглощением света на обеих границах слоя SiO2, возникающим вследствие сложного рельефа поверхности пленок ITO, напыленных электронно-лучевым испарением. Образцы с пленкой, полученной методом комбинированного нанесения, имеют коэффициент отражения на уровне 90% при нормальном падении излучения, что в совокупности с их большей электропроводностью обеспечивает им преимущество для применения в качестве отражающих контактов к области p-GaN AlInGaN-светодиодов флип-чип конструкции.
- И.П. Смирнова, Л.К. Марков, А.С. Павлюченко, М.В. Кукушкин, С.И. Павлов. ФТП, 48, 61 (2014)
- R. Goldhahn, S. Shokhovets, J. Scheiner, G. Gobsch, T.S. Cheng, C.T. Foxon, U. Kaiser, G.D. Kipshidze, W. Richter. Phys. Status Solidi A, 177, 107 (2000)
- B. Santic, F. Scholz. Meas. Sci. Technol., 19, 1 (2008)
- Haibo Gong, Xiaopeng Hao, Yongzhong Wu, Bingqiang Cao, Wei Xia, Xiangang Xu. Mater. Sci. Engin B, 176, 1028 (2011)
- S.J. Pearton, J.C. Zolper, R.J. Shul, F. Ren. J. Appl. Phys., 86, 1 (1999)
- S.A. Smith, C.A. Wolden, M.D. Bremser, A.D. Hanser, R.F. Davis. Appl. Phys. Lett., 71, 3631 (1997)
- R.J. Shul. In: GaN and Related Materials II, ed. by S.J. Pearton (Gordon and Breach, N. Y., 1998)
- X.A. Cao, S.J. Pearton, A.P. Zhang, G.T. Dang, F. Ren, R.J. Shul, L. Zhang, R. Hickman, J.M. Van Hove. Appl. Phys. Lett., 75, 2569 (1999)
- S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, S. Nagahama. Jpn. J. Appl. Phys., 34, L797 (1995)
- И.П. Смирнова, Л.К. Марков, А.С. Павлюченко, М.В. Кукушкин. ФТП, 46(3), 384 (2012)
- J.J. Wierer, D.A. Steigerwald, M.R. Krames, J.J. O'Shea, M.J. Ludowise, G. Christenson, Y.C. Shen, C. Lowery, P.S. Martin, S. Subramanya, W. Gotz, N.F. Gardner, R.S. Kern, S.A. Stockman. Appl. Phys. Lett., 78, 3379 (2001)
- Д.А. Закгейм, И.П. Смирнова, И.В. Рожанский, С.А. Гуревич, М.М. Кулагина, Е.М. Аракчеева, Г.А. Онушкин, А.Л. Закгейм, Е.Д. Васильева, Г.В. Иткинсон. ФТП, 39(7), 885 (2005)
- H.S. Venugopalan, A. DiCarlo, X. Gao, S. Libon, B.S. Shelton, E. Stefanov, T. Zhang, I. Eliashevich, S.E. Weaver, M. Hsing, B. Kolodin, T. Soules, D. Florescu, S. Guo, M. Pophristic, B. Peres. Proc. SPIE, 4996, 195 (2003)
- Л.К. Марков, И.П. Смирнова, А.С. Павлюченко, Е.М. Аракчеева, М.М. Кулагина. ФТП, 43(11), 1564, (2009)
- R.W. Cahn. P. Haasen. E.J. Kramer. Materials Science and Technology (Weinheim, WILEY-VCH Verlag GmbH, 2000) v. 2, p. 451
- Hyunsoo Kim, Jaehee Cho, Yongjo Park, Tae-Yeon Seong. Appl. Phys. Lett., 92, 092 115 (2008)
- M. Donofrio, J. Ibbetson, Z.J. Yao. Patent US 8,368,100 B2, Feb. 5, 2013
- Jong Kyu Kim, Thomas Gessmann, E. Fred Schubert, J.-Q. Xi, Hong Luo Jaehee Cho, Cheolsoo Sone, Yongjo Park. Appl. Phys. Lett., 88, 013 501 (2006)
- J.K. Kim, S. Chhajed, M.F. Schubert, E.F. Schubert, A.J. Fischer, M.H. Crawford, J. Cho, H. Kim, C. Sone. Adv. Mater., 20, 801 (2008)
- М. Борн, Э. Вольф. Основы оптики (М., Наука, 1970)
- F.T. Shum, W.W. So, S.D. Lester. Patent US 7,573,074 B2, Aug. 11, 2009.
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.