Зависимость подвижности электронов в режиме обогащения от их плотности в полностью обедняемых пленках кремний-на-изоляторе
Наумова О.В.1, Зайцева Э.Г.1, Фомин Б.И.1, Ильницкий М.А.1, Попов В.П.1
1Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова Сибирского отделения Российской академии наук, Новосибирск, Россия
Поступила в редакцию: 19 февраля 2015 г.
Выставление онлайн: 19 сентября 2015 г.
Исследована подвижность электронов в режиме обогащения mueff в необедняемых и полностью обедняемых двухзатворных n+-n-n+-транзисторах со слоями кремний-на-изоляторе (КНИ). Предложена замена полевой зависимости подвижности mueff зависимостью от плотности индуцированных носителей заряда Ne для определения диапазона возможных значений подвижности и доминирующих механизмов рассеяния в тонкопленочных структурах. Показано, что зависимости mueff(Ne) могут быть аппроксимированы степенными функциями mueff(Ne) propto Ne-n, где показатель n, как и в полевой зависимости подвижности, определяется механизмом рассеяния носителей заряда. Определены значения показателя n для зависимостей mueff(Ne) при изменении режима пленки КНИ со стороны одной из ее поверхностей от инверсии до обогащения. Дано объяснение полученных результатов с точки зрения перераспределения плотности электронов по толщине пленки КНИ и изменения механизмов рассеяния.
- G.K. Celler, S. Cristoloveanu. J. Appl. Phys., 93 (9), 4955 (2003)
- R. Kuroda, A. Teramoto, S. Sugawa, T. Ohmi. Jpn. J. Appl. Phys., 47 (4), 2668 (2008)
- О.В. Наумова, М.А. Ильницкий, Л.Н. Сафронов, В.П. Попов. ФTП, 41 (1), 104 (2007)
- J.-P. Colinge, C.-W. Lee, A. Afzalian, N.D. Akhavan, R. Yan, I. Ferain, P. Razavi, B. O'Neill, A. Blake, M. White, A.-M. Kelleher, B. McCarthy, R. Murphy. Nature Nanotechnology, 5, 225 (2010)
- O.V. Naumova, B.I. Fomin, L.N. Safronov, D.A. Nasimov, M.A. Ilnitskii, N.V. Dudchenko, S.F. Devyatova, E.D. Zhanaev, V.P. Popov, A.V. Latyshev, A.L. Aseev. Optoelectronics, Instrumentation and Data Processing, 45 (4), 287 (2009)
- O.V. Naumova, B.I. Fomin, D.A. Nasimov, N.V. Dudchenko, S.F. Devyatova, E.D. Zhanaev, V.P. Popov, A.V. Latyshev, A.L. Aseev, Yu.D. Ivanov, A.I. Archakov. Semocond. Sci. Technol., 25, 055 004 (2010)
- N. Elfstrom, R. Juhasz, I. Sychugov, T. Engfeldt, A. Eriksson Karlstrom, J. Linnros. Nano Lett., 7 (9), 2608 (2007)
- H.K. Lim, J.G. Fossum. IEEE Trans. Electron Dev., 30 (10), 1244 (1983)
- J.-P. Colinge. Silicon-on-Insulator Technology: Materials to VLSI, 3-rd edn. (Boston, Kluwer, 2004)
- T. Rudenko, A. Nazarov, V. Kilchytska, D. Flandre, V. Popov, M. Ilnitsky, V. Lysenko. Semicond. Physics, Quant. Electron. \& Optoelectron., 16 (3), 300 (2013)
- В.П. Попов, М.А. Ильницкий, О.В. Наумова, А.Н. Назаров. ФТП, 48 (10), 1348 (2014)
- S. Takagi, A. Toriumi, M. Iwase, H. Tango. IEEE Trans. Electron Dev., 41 (12), 2357 (1994)
- K. Chen, H. Clement Wann, J. Dunster, P.K. Ko, C. Hu. Solid-State Electron., 39 (10), 1515 (1996)
- M. Mastrapasqua, D. Esseni, G.K. Celler, C. Fiegna, L. Selmi, E. Sangiorgi. Microelectron. Eng., 59, 409 (2001)
- J. Koga, S. Takagi. IEEE Trans. Electron Dev., 49 (6), 1042 (2002)
- A. Ortiz-Conde, F.J. Garcia Sanchez, J.J. Liou, A. Cerdeira, M. Estrada, Y. Yue. Microelectron. Reliab., 42, 583 (2002)
- С.М. Зи. Физика полупроводниковых устройств (М., Энергия, 1973)
- S. Mudanai, G.L. Chindalore, W.-K. Shih, H. Wang, Q. Ouyang, A.F. Tasch, C.M. Maziar, S.K. Banerjee. IEEE Trans. Electron Dev., 46 (8), 1749 (1999)
- Sentaurus Device User Guide. Version E-2010.12 (2010), p. 276
- B.A. Гуртов. Твердотельная электроника (М., Техносфера, 2005)
Подсчитывается количество просмотров абстрактов ("html" на диаграммах) и полных версий статей ("pdf"). Просмотры с одинаковых IP-адресов засчитываются, если происходят с интервалом не менее 2-х часов.
Дата начала обработки статистических данных - 27 января 2016 г.