Вышедшие номера
Барьерная гетероструктура n-ZnO/p-CuI на основе электроосажденных в импульсном режиме наномассивов оксида цинка и изготовленных методом SILAR пленок иодида меди
Клочко Н.П.1, Копач В.Р.1, Хрипунов Г.С.1, Корсун В.Е.1, Волкова Н.Д.2, Любов В.Н.1, Кириченко М.В.1, Копач А.В.1, Жадан Д.О.1, Отченашко А.Н.1
1Национальный технический университет "Харьковский политехнический институт", Харьков, Украина
2Национальный аэрокосмический университет "Харьковский авиационный институт", Харьков, Украина
Email: klochko_np@mail.ru
Поступила в редакцию: 16 ноября 2016 г.
Выставление онлайн: 20 мая 2017 г.

В качестве перспективной базовой приборной диодной структуры полупрозрачного детектора ближнего ультрафиолетового излучения исследована барьерная гетероструктура p-CuI/n-ZnO. Проведен анализ кристаллической структуры, электрических и оптических свойств электроосажденных в импульсном режиме наномассивов оксида цинка и изготовленных методом SILAR пленок иодида меди, на основе которых создана чувствительная к УФ-облучению в спектральном диапазоне 365-370 нм барьерная гетероструктура n-ZnO/p-CuI. С помощью вольт-амперных характеристик определены шунтирующее сопротивление Rsh· Sc=879 Ом · см2, последовательное сопротивление Rs· Sc=8.5 Ом · см2, коэффициент выпрямления диода K=17.6, высота выпрямляющего барьера p-n-перехода Phi=1.1 эВ, коэффициент идеальности диода eta=2.4. Показано, что при малых напряжениях прямого смещения 0<U<0.15 В имеет место паритетное влияние механизмов рекомбинации и туннельного переноса носителей заряда. При увеличении напряжения выше 0.15 В механизм переноса становится туннельно-рекомбинационным. Значения плотности диодного тока насыщения J0 составили 6.4·10-6 мА · см-2 для механизма рекомбинации и туннельного переноса и 2.7·10-3 мА · см-2 для туннельно-рекомбинационного механизма переноса носителей заряда. DOI: 10.21883/FTP.2017.06.44563.8450