Вышедшие номера
Исследование рекристаллизации KHC-структур при разных энергиях аморфизирующего пучка ионов
Александров П.А.1, Демаков К.Д.1, Шемардов С.Г.1, Кузнецов Ю.Ю.1
1Национальный исследовательский центр "Курчатовский институт", Москва, Россия
Поступила в редакцию: 6 августа 2012 г.
Выставление онлайн: 20 января 2013 г.

Кремниевые пленки на сапфировой подложке были получены с помощью рекристаллизации с границы раздела кремний-сапфир. Аморфный слой формировался при помощи ионной имплантации с энергией ионов кремния 90-150 кэВ. Рентгеновская кривая качания использовалась для оценки кристаллического совершенства кремниевых пленок. После рекристаллизации кремниевый слой состоял из двух частей с разным структурным качеством. Рекристаллизованные структуры кремний на сапфире имеют высокосовершенный верхний слой (для производства приборов микроэлектроники) и нижний слой с большим количеством дефектов, прилегающий к сапфировой подложке.